Business Areas & Products
Semi-conductor & Display Industry
반도체 집적도 향상의 주역, 플라즈마
플라즈마 기술 중요성 증가
“2nm초(超)미세공정 시대 도래”
플라즈마 기술의 적용 범위 확장
“플라즈마 기술 접목으로 초정밀 식각/증착 상승, 수율 상승”
플라즈마 기술, 집적도 향상을 견인
“반도체 제조의 70%~80% 공정에 플라즈마를 직·간접적으로 사용”
플라즈마 기술 중요성 증가
“2nm초(超)미세공정 시대 도래”
플라즈마 기술의 적용 범위 확장
“플라즈마 기술 접목으로 초정밀 식각/증착 상승, 수율 상승”
플라즈마 기술, 집적도 향상을 견인
“반도체 제조의 70%~80% 공정에 플라즈마를 직·간접적으로 사용”
- 반도체 공정 내 플라즈마 적용 확대(식각/증착/세정/코팅/Contact hole/잉곳 커팅 등)
- 후공정인 웨이퍼 다이싱으로 확대
RPS(Remote Plasma Source) 란?
RPS(Remote Plasma Source)는 플라즈마 데미지를 최소화하기 위해 원거리에서 플라즈마를 발생시키고 반응에 필요한 활성종(Radical)을 웨이퍼에 공급하는 장치입니다.
RPS(Remote Plasma Source) 응용처
RPS(Remote Plasma Source)는 현재 반도체 소자 제조의 다양한 공정에 적용되고 있습니다.
