Core Technology
H2L2-ICP Plasma Technology
독보적인 ‘H2L2-ICP’ 기술로 뛰어난 성능 구현
독자 개발 안테나 기술 적용
‘H2L2-ICP’ Technology
Highly inductive antenna, Highly coupled with the plasma
Low antenna voltage, Low plasma loss
“높은 에너지 효율 및 우수한 플라즈마 방전 유지 특성”
국내 및 해외 특허 확보
- 강한 유도전기장을 발생시키면서도 방전관의 전압을 낮출 수 있는 기술
– 플라즈마와 강한 결합을 가지며 손실이 매우 낮음 - 자성체에 의한 전력 손실 원천적 차단
- 플라즈마 활성종의 손실이 작아 고효율 활성종 생산이 가능
“높은 에너지 효율 및 우수한 플라즈마 방전 유지 특성”
국내 및 해외 특허 확보
- 강한 유도전기장을 발생시키면서도 방전관의 전압을 낮출 수 있는 기술
– 플라즈마와 강한 결합을 가지며 손실이 매우 낮음 - 자성체에 의한 전력 손실 원천적 차단
- 플라즈마 활성종의 손실이 작아 고효율 활성종 생산이 가능