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业务介绍

半导体/显示器

Solving Process Challenges in
Advanced Semiconductor Manufacturing

解决半导体制造用尖端前道工艺课题的技术

 

请查看以下详细说明

 

在前道先端工艺中,等离子体的直接暴露对晶圆造成等离子体损伤。

EN2 CORE科技的远程等离子体源(RPS)提供无电性能的活性物质(自由基),使等离子体在工艺过程中不会直接与晶圆接触。

该技术完美实现了三维结构的尖端前道工艺,无等离子体损伤。

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Youtebe

WORLD BEST PLASMA TECHNOLOGY (for semiconductor)

等离子体工艺能力的新标准

EN2CORE科技的RPS是专门为半导体前道工艺设计的。
在PECVD、ALD、ALE、去除自然氧化膜、表面预处理、金属蚀刻、去除硬掩膜、灰化、腔室清洗等各种半导体工艺中,为前道工艺提供优化的性能。
直接突破等离子体的局限,通过RPS实现的远程等离子体工艺,发挥精准的工艺控制能力与优秀的工艺性能。

RPS产品系列

EN2RA-RPS

EN2RA-RPS

BLUE-F

BLUE-F

PRO-RPS

PRO-RPS

RPS应用领域

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运用经验证的等离子体专业性,加快创新的步伐

EN2 CORE科技的远程等离子体源(RPS)是通过强大的IP、专业技术实力和半导体制造工厂的严格测试得到验证的产品。
降低开发成本、缩短工期,与可靠的合作伙伴合作,自信地解决自信地解决棘手的等离子体工艺课题吧!

实现远程等离子体工艺的最佳解决方案,EN2CORE科技

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