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业务介绍

腔体清洗用RPS

腔室清洗用RPS

EN2CORE科技的腔室清洁用RPS是为了提高NF₃腔室清洁的可靠性而设计的产品,通过稳定生成活性物质来最大限度提高腔室内残留物的去除效率。
此外,采用能源高效化设计,大幅节约用电,达到了ESG经营的要求,支持与半导体设备之间的稳定运行和易于集成。

EN2RA™ -RPS

  • ico

    高效清洁

    SiO₂蚀刻率最多可提高20%,更快速、更高效得去除残留物。

  • ico

    功率高效化

    最多以低40%的功率实现相同的性能,节省能源使用与成本。

  • ico

    小巧轻便的设计

    体积小、重量轻,便于设备集成。

  • ico

    支持广泛的NF₃流量范围

    支持2–8slm的NF₃流量,可应对各种腔室清洁条件。

腔室清洗用RPS的规格

新一代腔室清洁用RPS- 采用紧凑与能源高效设计的BLUE-F是EN2CORE科技公司的**新一代腔室清洁用远程等离子体源(RPS)***,它是具备小型化、能源效率、成本竞争力等优势的解决方案,可以代替现有的产品。
NF₃等离子专用的BLUE-F与现有的主要竞争产品相比,体积减小了22%,安装面积减小了19%,重量减轻了25%,在保障同等性能的同时,提供卓越的清洁效果。

EN2RA™ -RPS

最大功率
6kW
点火气体
0.5 to 5 Torr, 100% Ar
适用气体

Ar, NF3

气体流量
Up to 2 slm / 8 slm
适用工艺
腔室清洁
  • NF₃分解率达95%以上
  • 宽大的放电窗口
  • 小巧轻便的设计
    (14 kg, 380 mm × 240 mm × 260 mm [D×W×H])

协助解决顾客工艺课题的可靠的合作伙伴,EN2CORE科技

减少颗粒、节省功耗、提高腔室运转率,EN2CORE科技的腔室清洁用RPS
可以精准、稳定、高效地满足高效地满足严苛的腔室清洁要求。

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