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EN2CORE technology Logo 플라즈마 전문기업 인투코어테크놀로지

사업소개

챔버 세정용 RPS

챔버 세정용 RPS

NF₃ 챔버 세정의 신뢰성을 위해 설계된 인투코어테크놀로지의 챔버 세정용 RPS는 안정적인 활성종 생성을 통해 챔버 내 잔여물 제거 효율을 극대화합니다.
또한, 에너지 효율적인 설계로 혁신적으로 사용 전력을 절감하여 ESG 경영의 요구사항을 충실히 달성하였고, 반도체 장비와의 안정적인 운용 및 손쉬운 통합을 지원합니다.

EN2RA™ -RPS

  • ico

    고효율 세정

    최대 20% 향상된 SiO₂ 식각률로 더 빠르고 효과적인 잔여물 제거를 실현합니다.

  • ico

    전력 효율성

    동일한 성능을 최대 40% 낮은 전력으로 구현하여 에너지 사용과 비용을 절감합니다.

  • ico

    컴팩트하고 경량화된 설계

    작아진 크기와 무게로 장비 통합이 용이합니다.

  • ico

    넓은 NF₃ 유량 범위 지원

    2–8 slm의 NF₃ 유량을 지원하여 다양한 챔버 세정 조건에 대응 가능합니다.

챔버 세정용 RPS 사양

차세대 챔버 세정용 RPS - 컴팩트하고 에너지 효율적으로 설계된 BLUE-F는 인투코어테크놀로지의 **차세대 챔버 세정용 RPS**로, 기존 제품을 대체할 수 있도록 소형화, 에너지 효율성, 비용 경쟁력을 갖춘 솔루션입니다.
NF₃ 플라즈마 전용으로 개발된 BLUE-F는 기존 주요 경쟁 제품 대비, 22% 감소된 부피, 19% 축소된 설치면적, 25% 절감된 무게를 실현하면서도 성능 저하 없이 탁월한 세정 효과를 제공합니다.

EN2RA™ -RPS

최대출력 전원
6kW
점화 가스
0.5 to 5 Torr, 100% Ar
적용 가스

Ar, NF3

가스 유량
Up to 2 slm / 8 slm
적용 공정
챔버 세정
  • NF₃ 분해율 95% 이상
  • 넓은 방전 윈도우
  • 컴팩트하고 경량화된 설계
    (14 kg, 380 mm × 240 mm × 260 mm [D×W×H])

고객의 공정 과제를 함께 해결하는 믿을 수 있는 파트너, 인투코어테크놀로지

파티클 저감, 전력 절감, 챔버 가동률 향상까지
인투코어테크놀로지의 챔버 세정용 RPS는 까다로운 챔버 세정의 요구를
정확하고 안정적으로, 그리고 효율적으로 해결합니다.

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